Nanoresist

Das Ziel des Projektes besteht in der Entwicklung neuartiger farbiger und schwarzer Photoresists unter Verwendung von Nanomaterialien für die Kolorierung. Gleichzeitig sollen Nanopartikel zur Erhöhung der Stabilität der Photoresists gegenüber fluor- und sauerstoffhaltigem Plasmen eingesetzt werden.

Die Entwicklungsarbeiten beinhalten u.a. das Screening kommerzieller Nanomaterialien und die Testung ihrer Kompatibilität mit negativen Photoresists auf Novolak-, Epoxid- und PMMA Basis und auf der Basis von Silikon. Bei Bedarf werden Nanopartikel synthetisiert und in geeigneter Weise modifiziert. Die Zusammensetzung der Photoresists (Polymerbasis und Lösemittel) werden variiert, um die Kompatibilität mit den Nanopartikeln zu verbessern. Kompatibilität heißt in diesem Zusammenhang, dass sich die Nanopartikel in einer ausreichenden Menge gleichmäßig in den Resists dispergieren lassen und auch dispergiert bleiben. Die vielversprechendsten Systeme (kommerzielle oder aus eigener Synthese) werden auf ihre photochemischen Eigenschaften, ihre Verarbeitbarkeit, photolithographischen Parameter und Stabilität beim Ätzen mittels verschiedener Ätzplasmen getestet.