Focused Ion Beam

FIB Micrion 9100

• Spannung 30 kV
• Ga-Ionen
• Wolframabscheidung mit Wolframhexacarbonyl W(CO)6
• Ätzen mit Xenondifluorid XeF2
• Strukturbreiten bis 50 nm
• Bildgebung durch Mikrokanalplatte, keine Röntgendiagnostik
• Probengröße bis 20 cm
• Vakuumdruck bis etwa 10-7 mbar