PlasmOS
Forschungsprojekt PlasmOS
PlasmOS
Titel:
Plasmaquelle zur Optimierung der Schichtabscheidung im Hochvakuum
Projektbeschreibung:
Im Vorhaben soll eine Plasmaquelle beschafft werden, welche bei Hochvakuumbeschichtungen mit Hilfe thermischer Verdampfer eingesetzt werden kann, um Haft und Schichteigenschaften gezielt beeinflussen zu können. Dabei geht es zum einen um eine Aktivierung der zu beschichtenden Substratoberflächen, um die Haftfestigkeit der Schichten zu erhöhen. Zum anderen soll durch die zusätzliche Plasmabehandlung während des thermisch induzierten Beschichtungsvorgangs die Morphologie und chemische Struktur der Schichten und damit die Schichteigenschaften in definierter Weise beeinflusst werden.
Projektnummer: 85017156
Projektsumme: 95.920 €
Fördersummes EU: 76.736 €
Bewilligungszeitraum: 06.03.2018 - 31.05.2019
Fördermittelgeber:
Ministerium für Wissenschaft, Forschung und Kultur des Landes Brandenburg
aus Mitteln zur Förderung der Infrastruktur für Forschung, Entwicklung und Innovation aus dem EFRE (InfraFEI)
Ansprechpartner:
