Verdampfungsanlage "B30"

Verdampfungsanlage "B30"

  • thermische Verdampfung
  • Vakuum bis 10-5 mbar
  • Auftragsgeschwindigkeit bis 2 nm/s
  • geeignet für Beschichtungen mit Teflon, Lithiumfluorid, Metallen und organischen Farbstoffen
  • robuste Technik, über Jahrzehnte bewährt
Verdampfungseinrichtungen B30
© Arbeitsgruppe Photonik, Laser- und Plasmatechnologien

    Dr. rer. nat. Viachaslau Ksianzou

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