PECVD-Anlage „Von Ardenne LS 350 P"
PECVD Beschichtungsanlage

PECVD-Anlage „Von Ardenne LS 350 P"

PECVD-Anlage „Von Ardenne LS 350 P"

  • Plasmabeschichtung mit kapazitiver Einkopplung 13,56 MHz
  • Beschichtung mit Polysilizium, Siliziumoxid, Siliziumnitrid
  • Prozessgase: CF4, CHF3, CH4, NH3, H2, SiH4, O2, N2, Ar
  • Flüssigverdamper HMDSN/HMDSO
  • Prozessdrücke ca. 10 – 100 Pa
  • Maximale Wafergröße 150 mm
PECVD Beschichtungsanlage
© Arbeitsgruppe Photonik, Laser- und Plasmatechnologien

Ansprechpartner Dr.-Ing. Friedhelm Heinrich Dr.-Ing. Friedhelm Heinrich

Tel.: +49 3375 508 429
Mail: friedhelm.heinrich@th-wildau.de

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